FA/薄膜制造加工设备、精密铸造产品

增透膜/防污膜装置

通过将独特设计的溅射阴极与有机EL成膜设备开发中培育的真空蒸镀方法相结合,我们提供可以在同一设备中进行从防反射层到防污层的集成成膜的设备,从而最大限度地提高生产效率。

  • 抗反射涂层(AR涂层)旨在防止光反射和反光的涂层。
  • 防指纹(AFP 薄膜) 一种旨在防止指纹粘附并更容易擦去指纹的涂层。 (一般镀AR膜)

配备触摸面板的显示器的最外表面必须耐指纹、耐污垢、易于擦拭,并且即使在频繁操作后也耐刮擦。传统的湿式涂覆方法很难完全满足这些性能,但采用我们的真空沉积方法形成的最外表面(防污层)具有高滑动耐久性,可以长时间维持其防污功能。您还可以通过卷对卷工艺保持高生产率。

主要服务和产品

Kanadevia AR 电影示例

胶片上有无 AR 胶片的比较

Kanadevia AFP 膜示例

玻璃上有无 AFP 薄膜的比较
  • 我们还可以提供沉积样品。请使用下面的查询表与我们联系。

HARD-F系列

功能

这是一种在柔性基板上连续形成AR膜和AFP膜的设备。

  • 通过为不同真空度的溅射和真空蒸镀工艺提供压差调节机构,可以连续成膜。
  • AR胶片采用独特设计的SunGame官网阴极,可实现长时间运行和高输出成膜。
  • AFP薄膜采用独特设计的喷嘴式线性源,使得成膜材料利用率高、膜厚均匀性高。
  • AFP膜采用独特设计的阀门机构,1) 保持蒸发速率的稳定性,2) 在不蒸发时实现关闭,3) 在蒸发过程中实现材料交换,4) 实现液体材料的蒸发。
产品名称 HARD-F 系列
型号 HF-300 HF-600 HF-1200 HF-1600 HF-2000
支持的胶片宽度 300毫米 600毫米 1,200毫米 1,600毫米 2,000毫米
送膜速度 05m~20m/分钟
薄膜预处理 等离子清洗
板载溅射源 SunGame官网阴极、双阴极
板载蒸发源 喷嘴式线性光源
溅射/蒸发压力控制 压差控制型

此外,通过在设备前后安装ATV机构,在更换原片时无需停止设备即可连续运行,有助于提高生产率。

HARD-G系列

功能

该设备采用立式转鼓式,通过真空工艺在玻璃基板和塑料基板上形成AR和AFP薄膜。

  • 配备与HARD-F系列相同技术的溅射源和蒸发源。
  • 可处理长基板、曲面基板等多种基板。
  • 适合宽波长范围的成膜,可灵活生产多品种、小批量的产品。
  • 可以选择安装装载锁定机构和自动板设置。
产品名称 HARD-G 系列
型号 HG-800 HG-1400 HG-1800
最大板长度(毫米)* 800 1,400 1,800
兼容基材 薄膜、玻璃
滚筒转速 〜100rpm
板载溅射源 SunGame官网阴极、双阴极
溅射源数量 2~4个来源
后氧化单元
板载沉积源 喷嘴式线性源
  • 通过加宽滚筒直径,可容纳板宽达400mm。

相关技术

有关我们业务的咨询,请点击此处

联系我们